氬離子研磨系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CleanMill氬離子研磨系統(tǒng)為電池樣品SEM表征提供高質(zhì)量的制樣方案，傳統(tǒng)的機(jī)械研磨方式制備樣品斷面，斷面不可避免的存在機(jī)械損傷和磨料嵌入樣品引起的污染。使...
XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀 參考價(jià)：面議
XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)，利用該技術(shù)，即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管將Ｘ射線源的大部分...
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685 參考價(jià)：面議
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685，一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)，是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力，采用陣列光電倍增管得到高增益光探測(cè)能力。通過DigitalMi...
Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525 參考價(jià)：面議
Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525,精悍緊湊，能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)接口，它包含一個(gè)絕熱接口，適用于二次電子像、電子背散射衍射（EBSD）與...
MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái) 參考價(jià)：面議
MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái)，可以對(duì)金屬樣品施加高達(dá)2000N的拉力，用戶EBSD分析，或者對(duì)一些其他材料進(jìn)行常規(guī)的應(yīng)力-應(yīng)變分析和SE...
MICROTEST系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái) 參考價(jià)：面議
MICROTEST系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái),金屬及鍍層：用于研究晶粒變化、鍍層結(jié)合情況、高溫形變及松弛機(jī)理、晶粒旋轉(zhuǎn)及織構(gòu)變化。復(fù)合材料：用于研究材料韌性及強(qiáng)度;...
GATAN C1000系列冷臺(tái) 參考價(jià)：面議
GATAN C1000系列冷臺(tái),包括冷臺(tái)模塊，制冷溫度為–185°C 到室溫的C1001，制冷溫度為-185°C 到 +200°C...
Gatan SmartEMIC電子束感應(yīng)電流測(cè)量系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Gatan SmartEMIC電子束感應(yīng)電流測(cè)量系統(tǒng)，可以實(shí)時(shí)軟件控制全自動(dòng)采集電子束感生電流（EBIC）信號(hào)，獲得EBIC圖像信息，還可以獲得IV曲線信息，終...
Monarc 陰極熒光系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Monarc 陰極熒光系統(tǒng)，通過突破性的光路設(shè)計(jì)，Monarc 具有顯著增加的靈敏度和譜分辨率，由此帶來的*特色的波長-角度分辨能力，使您能夠進(jìn)行更為完整的陰極...
ALT327 impact-freezer 沖撞冷凍制樣 參考價(jià)：面議
ALT327 impact-freezer 沖撞冷凍制樣,為 ALTO 冷凍掃描電鏡系統(tǒng)而設(shè)計(jì)的撞擊式冷凍制樣設(shè)備，提供了樣品載體和樣品載臺(tái)，它們可以放置在 A...
Gatan氬離子拋光系統(tǒng)Ilion II 697 參考價(jià)：面議
Gatan氬離子拋光系統(tǒng)Ilion II 697，可利用IlionII進(jìn)行拋光加工的材料種類十分廣泛，包括由多元素組成的試樣，以及具有不同的機(jī)械硬度、尺寸和物理...
SOLARUS （955）Plasma等離子清洗儀 參考價(jià)：面議
SOLARUS （955）Plasma等離子清洗儀，去除碳?xì)浠衔飳?duì)TEM和SEM樣品臺(tái)或樣品的污染，*的清洗解決方案，它利用等離子配方，對(duì)于所有的樣品，包括H...
BRIGHT KAS-2000F離子濺射儀 參考價(jià)：面議
BRIGHT KAS-2000F離子濺射儀，針對(duì)SEM/TEM開發(fā)出的產(chǎn)品，它可以對(duì)不導(dǎo)電樣品進(jìn)行噴鍍，使導(dǎo)電性不理想的樣品也能夠在SEM/TEM中進(jìn)行觀測(cè)。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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